Лаборатория производственных лазерных технологий Университет ИТМО Перейти к содержимому страницы.

Лаборатория производственных лазерных технологий EnEnglish

Лаборатория является частью Института лазерных технологий ИТМО, главной целью лаборатории является выполнение НИОКТР ИЛТ по заказам реального сектора экономики.
 
Основные задачи лаборатории:
  • выполнение научно-исследовательских и прикладных научных исследований в области разработки лазерных технологий, направленных на укрепление технологической независимости РФ;
  • выполнение опытно-конструкторских и опытно-технологических работ в области лазерных технологий, направленных на взаимодействие с предприятиями реального сектора экономики для внедрения результатов работ и создания коммерческого продукта в области лазерных технологий.
Основные текущие проекты лаборатории:
1) Разработка оборудования и технологий для лазерной функционализации поверхности изделий медицинского назначения (в рамках ПП РФ№218): 
  • улучшения биосовместимости имплантатов различного назначения за счет формирования микро- и нанорельефа, придания таких свойств как гидрофильность и износостойкость; 
  • увеличения бактериальной резистивности медицинских инструментов, имплантатов, ортопедических компонентов (абатментов, винтов, мебран и пр.) и придания антибактериальных свойств поверхности медицинских изделий без применения антибиотиков; 
  • нанесения идентификационных знаков на поверхность изделий; 
  • снижения шероховатости поверхности изделий после 3D-печати.
Главным преимуществом разрабатываемых комплексов и технологий является возможность бесконтактного локального формирования мультифункциональных поверхностей на изделиях медицинского назначения.
 
СМИ о проекте: 1, 2, 3.
 
2) Разработка технологий лазерной обработки объемных изделий и форм для обеспечения гибких производственных процессов при производстве компонентов и устройств электроники (в рамках ПП РФ№2136):
  • лазерная технология создания оптических элементов в объеме оптически-прозрачных диэлектриков;
  • технология лазерной резки оптически-прозрачных диэлектриков, полупроводников, полимеров, керамики;
  • технология лазерного скрайбирования оптически прозрачных диэлектриков, керамики и полупроводников;
  • технология лазерной прошивки микроотверстий в керамике, полупроводниках, оптически-прозрачных диэлектриках, полимерах;
  • технология лазерного микроструктурирования полупроводников и керамики;
  • лазерная технология создания токопроводящих структур на диэлектрических подложках методом лазерно-индуцированного осаждения металлов из растворов; технология лазерного переноса нитрида галлия на сапфир;
  • технология лазерного удаления полимеров с токопроводящих, полупроводниковых и диэлектрических подложек;
  • технология лазерного формирования кремниевых светоизлучающих структур с дислокационной люминесценцией для создания эффективных светодиодов;
  • лазерная технология создания фотошаблонов; 
  • технология деметаллизации и создания топологий путем лазерного удаления токопроводящих материалов с поверхности диэлектрических подложек.